Description

产品概述

PF20-03是Thorlabs生产的Ø50.8 mm（Ø2″） 熔融硅反射镜空白基底。采用基底级熔融硅材料，在185 nm至2.1 µm范围内具有高透过率。前表面精度达到λ/10 @ 632.8 nm，后表面细磨处理。可根据需求镀制宽带介质膜、金属膜或定制镀膜，满足特殊波段和性能要求。

产品特点

• 无镀膜（空白基底）镀膜，覆盖N/A（待镀膜）：熔融硅反射镜空白基底，前表面精细研磨至λ/10面型精度，后表面细磨处理。采用基底级熔融硅材料制造，在185 nm至2.1 µm范围内具有高透过率，纯度极高且环境耐久性出色。可直接镀制宽带介质膜、金属膜或定制镀膜，满足特殊应用需求。背面刻有产。
• 高反射率表现：N/A。
• 熔融硅（Fused Silica）基底：熔融硅具有优异的紫外透过率（185 nm – 2.1 µm）和极低的热膨胀系数（0.55 × 10⁻⁶/°C），化学稳定性好，耐激光损伤能力强，是高品质反射镜的标准基底材料。
• 激光损伤阈值：空白基底，损伤阈值取决于后续镀膜工艺。
• 面型精度与表面质量：前表面面型精度λ/10 @ 632.8 nm，表面质量40-20 划痕-麻点。后表面为细磨处理，减少背向反射干扰。
• 适用场景与安装：该反射镜适用于N/A（待镀膜）波段内的各种激光和光学系统，包括光路引导、光束转向和分光等应用。兼容KM200系列调节架和LMR2固定支架。

详细规格参数

参数	规格
直径	Ø50.8 mm（Ø2″）
镀膜类型	无镀膜（空白基底）（Mirror Blank (Uncoated)）
适用波段	N/A（待镀膜）
平均反射率	N/A
基底材质	熔融硅（Fused Silica）
厚度	12.0 mm ± 0.2 mm
面型精度	λ/10 @ 632.8 nm
表面质量	40-20 划痕-麻点
通光孔径	>90% 直径
平行度	≤3 arcmin
后表面	细磨（Fine Ground）
型号	PF20-03

镀膜技术说明

熔融硅反射镜空白基底，前表面精细研磨至λ/10面型精度，后表面细磨处理。采用基底级熔融硅材料制造，在185 nm至2.1 µm范围内具有高透过率，纯度极高且环境耐久性出色。可直接镀制宽带介质膜、金属膜或定制镀膜，满足特殊应用需求。背面刻有产品编号便于识别。金属镀膜反射镜对入射角变化相对不敏感，适合各种角度的光路设计。

典型应用领域

1. 定制镀膜反射镜基底
2. 特殊波段反射镜开发
3. 科研实验定制光学元件
4. OEM批量镀膜加工
5. 光学薄膜工艺研究

选型建议

选择反射镜镀膜时，应根据工作波长和具体应用需求综合考虑：

• 紫外波段（250-450 nm）：优先选择UV增强铝（-F01），该波段反射率最高；保护铝（-G01）也可覆盖但反射率略低
• 可见-近红外波段（450-2000 nm）：保护银（-P01）是最佳选择，反射率高达97.5%以上，是所有金属镀膜中反射率最高的
• 超快激光（750-1000 nm）：超快增强银（-AG）专为飞秒Ti:蓝宝石激光设计，兼具高反射率（>98.5%）和超低GDD（<20 fs²）
• 红外波段（800 nm-20 µm）：保护金（-M01）提供最平坦的红外反射率；若需更高反射率可选无保护金（-M03），但需注意操作保护
• 中红外波段（2-20 µm）：中红外增强金（-M02）在2 µm以上反射率最高（>98%），适合CO₂激光和中红外OPO系统
• 宽带通用（450 nm-20 µm）：保护银（-P01）覆盖范围最广且反射率最高，保护铝（-G01）更经济且在高湿环境更稳定

基底选择方面，对于高功率激光系统或温度敏感应用，推荐微晶玻璃®（Zerodur®）基底的PF0511/PF1011/PF2011系列，其超低热膨胀系数可有效抑制热致光束漂移。常规应用选择熔融硅基底即可满足需求。

同系列对比

品牌介绍

Thorlabs（索雷博）成立于1989年，总部位于美国新泽西州，是全球领先的光电元器件和系统制造商。公司产品线覆盖光学元件、光机械、运动控制、光电子设备和成像系统等，拥有从设计、制造到装配的完整垂直整合能力。Thorlabs致力于为科研和工业客户提供高性价比的光学解决方案，产品广泛应用于生命科学、工业检测、国防安全和前沿研究等领域。

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