GENTEC-EO ND2.0-FOCUS 光束分析仪 400-1595nm 高精度 连续波 脉冲测量

GENTEC-EO ND2.0-FOCUS 光束分析仪 400-1595nm 高精度 连续波 脉冲测量

GENTEC-EO ND2.0-FOCUS是专业的光束分析设备,高精度、高可靠性,广泛应用于科研、工业生产、激光加工等领域。加拿大原厂制造,品质保证。

Description

了解我们的 ND2.0-FOCUS 功率管理配件 适用于您的 laser 光束诊断需求. Gentec-EO 制造 高精度 激光光束测量设备.

核心特点:

  • 高精度测量,符合ISO国际标准
  • 稳定性好,可靠性高
  • 操作简便,界面友好
  • 加拿大原厂制造,品质保证

技术规格:

参数名称 参数值
管理激光功率 CMOS传感器具有低饱和电平和低损伤阈值。因此控制激光功率以获得最佳测量并避免损坏BEAMAGE相机非常重要
根据需要堆叠和衰减 这些滤光片在不改变光束波前或图像失真的情况下降低所有波长的强度。多个滤光片可直接堆叠
BEAMAGE-4M-FOCUS Beam profiling camera with fiber optic taper for large beams. 4.2 MPixel high-resolution CMOS sensor, ISO-compliant measurements.
光谱范围 400 – 1595 nm
透过率 ~1%
等效衰减 1/100
平行度 < 3 arcmin
光学密度公差 ± 5%
透射波前误差 < λ/10 @ 633 nm
表面质量 40-20 Scratch-Dig
最大平均功率密度 100 W/cm²
最大能量密度 3 J/cm²
最大功率 1 W
孔径直径 48 mm
尺寸 56Ø x 11.4D mm
重量 0.04 kg
安装螺纹 SM2
通光孔径 90% of area
尺寸公差 +0.0/-0.25 mm
基底材质 NG9
用户手册 光束诊断配件和滤光片
测量类型 : 功率能量光束分析
光束尺寸 光束形状
激光类型 激光模式
光束轮廓 光束分布

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